静電チャック装置およびその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997023192
Publication number (International publication number)：1998209256
Application date： Jan. 22, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】従来の装置は被吸着面に電極による凹凸があり、接着剤層によりそれを改良したものではその厚さにより熱伝導性が悪くなっていた。【解決手段】金属基盤1上に第1の接着剤層2a、セラミックからなる絶縁板7、第2の接着剤層2b、金属の蒸着膜またはメッキ膜からなる電極層3および絶縁性フィルム4を順次積層する構造とする。従来の各接着剤層を薄層にできるため、熱伝導性を改善できると同時に、絶縁性フィルムが疲労した場合の交換作業性が大幅に改善できる。

Claim (excerpt)：

金属基盤上に第1の接着剤層、セラミックからなる絶縁板、第2の接着剤層、金属の蒸着膜またはメッキ膜からなる電極層および絶縁性フィルムを順次積層してなることを特徴とする静電チャック装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 , H02N 13/00

FI (2)：

H01L 21/68 R , H02N 13/00 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

静電チャック装置およびその作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-311335 Applicant：株式会社巴川製紙所, 株式会社東芝
静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-100701 Applicant：株式会社創造科学, 有限会社宮田技研
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-273138 Applicant：東京エレクトロン株式会社

Show all

Return to Previous Page