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J-GLOBAL ID:200903047490715004
オゾン発生装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
明田 莞
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999039953
Publication number (International publication number):2000239005
Application date: Feb. 18, 1999
Publication date: Sep. 05, 2000
Summary:
【要約】【課題】 投入電力に対して無効となる電力が少なく、オゾン発生効率が良好になるようにする。【解決手段】 本発明は、一対の板状のフレーム108,109にセラミックの誘電体層102,103が配置され、該誘電体層102,103に挟まれた放電空間112に原料ガスを供給して前記放電空間112に無声放電を発生させることによりオゾンガスを生成するオゾン発生装置において、前記放電空間112の無声放電が発生する部位に前記原料ガスを導くとともに、前記放電空間112におけるガスの流れを均一化するガス流規制手段として、前記放電空間112を流れるガスの流れ方向の向きに沿った壁面を有する仕切壁115を設けてなる。
Claim (excerpt):
少なくとも一対の電極間に放電空間が形成され、この一対の電極の少なくとも一方の電極の放電空間側にセラミックの誘電体層が配置され、前記放電空間に原料ガスを供給して前記放電空間に無声放電を発生させることによりオゾンガスを生成するオゾン発生装置において、前記放電空間内の無声放電が発生する部位に前記原料ガスを導くとともに前記放電空間内におけるガスの流れを均一化するガス流規制手段を設けたことを特徴とするオゾン発生装置。
IPC (2):
FI (5):
C01B 13/11 Z
, C01B 13/11 C
, C01B 13/11 F
, C01B 13/11 J
, H01T 23/00
F-Term (5):
4G042CA01
, 4G042CC03
, 4G042CC04
, 4G042CC11
, 4G042CC19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特公平4-074281
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特開平3-170302
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特開昭53-070094
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特開昭63-114991
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オゾン発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-020594
Applicant:秩父小野田株式会社
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プラズマ処理方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-030191
Applicant:松下電器産業株式会社
-
エッチング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-176799
Applicant:株式会社芝浦製作所
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