Pat
J-GLOBAL ID:200903047500971004

水素還元水の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 江森 健二 ,  本山 敢
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008043201
Publication number (International publication number):2009195882
Application date: Feb. 25, 2008
Publication date: Sep. 03, 2009
Summary:
【課題】水素の微細気泡を効率的かつ安定的に発生させることができ、長時間にわたって水中に水素を存在させて酸化還元電位を低く維持することができる水素還元水を効率的に製造可能な水素還元水の製造方法を提供する。【解決手段】水中に水素の微細気泡が多量に存在する水素還元水の製造方法であって、水を、第1の円筒空間部及び当該第1の円筒空間部の内周面に通じる水導入路を備えた筐体と、筐体の第1の円筒空間部内に配置され、一端が外部に開口した第2の円筒空間部及び当該第2の円筒空間部の周壁に開口する孔部を備えた円筒部材と、を備えたノズル内に導入し、水及び水素を混合するとともに旋回流として導出させる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
水中に水素の微細気泡が多量に存在する水素還元水の製造方法において、 前記水を、第1の円筒空間部及び当該第1の円筒空間部の内周面に通じる水導入路を備えた筐体と、前記筐体の前記第1の円筒空間部内に配置され、一端が外部に開口した第2の円筒空間部及び当該第2の円筒空間部の周壁に開口する孔部を備えた円筒部材と、を備えたノズル内に導入し旋回流を発生させるとともに、 前記一端の反対側の端部から前記水素を導入して、前記水及び前記水素を混合するとともに旋回流として導出させることを特徴とする水素還元水の製造方法。
IPC (5):
C02F 1/68 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/00 ,  B01F 5/06 ,  B01F 5/02
FI (8):
C02F1/68 510A ,  C02F1/68 520B ,  C02F1/68 530A ,  B01F3/04 A ,  B01F3/04 Z ,  B01F5/00 G ,  B01F5/06 ,  B01F5/02 A
F-Term (6):
4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AB15 ,  4G035AC15 ,  4G035AC26 ,  4G035AC44
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特許第3606466号 (全文 全図)
  • 特許第3984279号 (全文 全図)
Cited by examiner (3)
  • 加水素水の製造方法及び製造装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2006-317740   Applicant:広島化成株式会社
  • 気液混合ノズル
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-114906   Applicant:野村電子工業株式会社
  • 水素還元水処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-227095   Applicant:株式会社ノーリツ

Return to Previous Page