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J-GLOBAL ID：200903081730775208

加水素水の製造方法及び製造装置

Inventor：
松岡 大悟

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武部 茉衣子

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早間 隆弘

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原田 利典

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高垣 雄一

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松井 久一

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Applicant, Patent owner：
広島化成株式会社

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Agent (1)： 矢野 寿一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006317740
Publication number (International publication number)：2007237161
Application date： Nov. 24, 2006
Publication date： Sep. 20, 2007
Summary：
【課題】 酸化還元電位が-400mV〜-680mV、pHが中性で、120μm〜2μmの水素の微細気泡を大量に含んだ加水素水の提供。【解決手段】 両端開口の密閉管体内に、拡散室をダブルチューブ構造で設け、拡散室に厚さ10mm、孔径200メッシュ(0.074mm)のステンレス製多孔質要素を設け、密閉管体に、酸化還元電位357mV、pH7.25、水温13.2°Cの水道水を0.2MPa、水量15L/分で供給し、0.25MPa、流量0.5L/分に調整した水素ガスを供給し、原料水と混合し、多孔質要素を通過させて拡散室に拡散させて、水量10L/分、水温13.3°C、溶存水素量1.31ppm、酸化還元電位が-615mVで、直径200メッシュ(0.074mm)の微細気泡を大量に含んだ加水素水を得る。必要に応じて、この加水素水製造装置を2基以上連結する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
酸化還元電位が-400mV〜-680mVで、pHが中性で、0.5〜1.6ppmの量の水素ガスを、直径が120μm〜2μmの範囲のミリバブル、マイクロバブル、およびマイクロナノバブルの混合気泡として大量に含んだ加水素水。
IPC (3)：
C02F 1/68 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/04
FI (5)：
C02F1/68 520B ,  C02F1/68 510A ,  C02F1/68 530A ,  B01F3/04 A ,  B01F5/04
F-Term (2)：
4G035AB05 ,  4G035AC26
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 水素水を製造する装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-436591   Applicant：広島化成株式会社
Cited by examiner (3)

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