Pat
J-GLOBAL ID：200903047876745137

転炉型容器を用いたスラグ発生量の少ない溶銑の予備処理方法

Inventor：
宮本 健一郎

About 宮本 健一郎


Applicant, Patent owner：
新日本製鐵株式会社

About 新日本製鐵株式会社


Agent (1)： 中前 富士男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001058001
Publication number (International publication number)：2002256325
Application date： Mar. 02, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：
【要約】【課題】 転炉型容器を用い、脱Si、脱Pの予備処理に用いるフラックスの使用量や発生スラグ量を減少させ、脱Si、脱P反応の反応効率を高めて到達Si、到達P濃度を低減することができる転炉型容器を用いたスラグ発生量の少ない溶銑の予備処理方法を提供する。【解決手段】 転炉型容器10を用いて、脱Si処理及び脱P処理を行うスラグ発生量の少ない溶銑の予備処理方法において、前回の溶銑の予備処理で発生したスラグの40〜60重量%を転炉型容器10内に残留させておき、転炉型容器10内に新しい溶銑16を装入し、そして吹酸し溶銑16の脱Si処理及び脱P処理を行い、この脱Si処理及び脱P処理の途中で、溶銑16にフラックス15を添加して、更に、脱Si処理及び脱P処理を継続して行う。
Claim (excerpt)：
転炉型容器を用いて、脱Si処理及び脱P処理を行うスラグ発生量の少ない溶銑の予備処理方法において、前回の溶銑の予備処理で発生したスラグの40〜60重量%を前記転炉型容器内に残留させておき、該転炉型容器内に新しい溶銑を装入し、そして吹酸し該溶銑の脱Si処理及び脱P処理を行い、この脱Si処理及び脱P処理の途中で、該溶銑にフラックスを添加して、更に、前記脱Si処理及び脱P処理を継続して行うことを特徴とする転炉型容器を用いたスラグ発生量の少ない溶銑の予備処理方法。
IPC (3)：
C21C 5/28 ,  C21C 1/02 103 ,  C21C 1/02 110
FI (3)：
C21C 5/28 H ,  C21C 1/02 103 ,  C21C 1/02 110
F-Term (13)：
4K014AA02 ,  4K014AA03 ,  4K014AB03 ,  4K014AC01 ,  4K014AC16 ,  4K070AA10 ,  4K070AB02 ,  4K070AB06 ,  4K070AB11 ,  4K070AC02 ,  4K070AC12 ,  4K070AC14 ,  4K070BC06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 溶銑の脱燐方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-000207   Applicant：日本鋼管株式会社
  • 転炉精錬方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-179457   Applicant：新日本製鐵株式会社
  • 特公昭49-015126
Show all
Cited by examiner (3)
  • 溶銑の脱燐方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-000207   Applicant：日本鋼管株式会社
  • 転炉精錬方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-179457   Applicant：新日本製鐵株式会社
  • 特公昭49-015126

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM