Pat

J-GLOBAL ID：200903048052034432

気化装置

Inventor： 記村 隆章
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993233734
Publication number (International publication number)：1995094497
Application date： Sep. 20, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 液体供給管内での有機溶剤のガス化を抑制して有機溶剤と原料とを同時に安定してガス化することができ、更に溶質の析出や異物の詰まり等を生じさせない気化装置を提供する。【構成】 液体供給管12に連通する先端開口12a(液体連通口)及び気体送出管14に連通する先端開口部分14a(気体連通口)が形成された気化室11aを有し、液体供給管12から気化室11a内に供給された液体原料を気化して気化室11aから気体送出管14へと送出する気化装置において、液体供給管12の内部圧力を気化室11aの内部圧力より高くするノズル形状に形成された先端開口12a(液体圧力調整手段)を設けた。

Claim (excerpt)：

液体供給管に連通する液体連通口及び気体送出管に連通する気体連通口が形成された気化室を有し、前記液体供給管から前記気化室内に供給された液体原料を気化して前記気化室から前記気体送出管へと送出する気化装置において、前記液体連通口に、前記液体供給管の内部圧力を前記気化室の内部圧力より高くする液体圧力調整手段を設けたことを特徴とする気化装置。

IPC (6)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/205 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822 ,  H01L 21/8242 ,  H01L 27/108

FI (3)：

H01L 21/31 B ,  H01L 27/04 C ,  H01L 27/10 325 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 半導体製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-307420   Applicant：富士通株式会社
• 化学気相成長装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-266247   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開平4-045838