局所密閉型清浄装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：金本哲男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997163247
Publication number (International publication number)：1998340874
Application date： Jun. 05, 1997
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】インターフェース部内の雰囲気を清浄に保ち、化学汚染物質、塵埃を効率よく除去したり外部に排出すると共に、並設の半導体製造装置からの熱負荷の影響を抑える。【解決手段】インターフェース部3を側板11等で気密に閉鎖し、レタンダクト31にガス導入管33から窒素ガスを導入し、送風機32によってのレタンダクト31、プレナムチャンバ25、移送空間Tを順に巡る窒素ガスの循環気流を形成する。冷却コイル41、加熱コイル42によって循環気流の温度調整がなされ、ケミカルフィルタ43によって化学汚染物質が除去され、フィルタ装置24によって塵埃も除去される。必要に応じて排気口36、37から雰囲気が排気されるので、インターフェース部3自体に汚染源があってもパージされる。

Claim (excerpt)：

電子部品製造装置と電子部品搬送装置との間で電子部品を移送するためのインターフェース部を気密に閉鎖するチャンバと、前記チャンバにおける電子部品製造装置側の側壁に形成された、インターフェース部と電子部品製造装置との間で電子部品を移送するための第1の移送口と、前記チャンバにおける電子部品搬送装置側の側壁に形成された、電子部品搬送装置とインターフェース部との間で電子部品を移送するための第2の移送口と、前記第1、第2の各移送口を開閉自在な開閉装置と、前記電子部品移送の際に電子部品が通過する移送空間と、前記移送空間に清浄な空気を供給するためのフィルタ装置と、フィルタ装置からの吹き出し風速を一様にするためのプレナムチャンバと、移送空間とプレナムチャンバを結ぶレタンダクトと、前記チャンバ内においてプレナムチャンバ、移送空間、レタンダクト、プレナムチャンバと順に巡る循環気流を形成するための送風機と、前記所定の気流の温度調整を行う温度調整手段と、前記チャンバ内に外部からガスを導入するガス導入手段と、前記チャンバ内の雰囲気を排気する排気手段と、を備えてなる、局所密閉型清浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 , F24F 7/06 , H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/304 341 C , F24F 7/06 C , H01L 21/68 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

半導体製造装置および基板の搬送方法ならびに半導体装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-233065 Applicant：株式会社日立製作所
搬送空間の高清浄化システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-212850 Applicant：高砂熱学工業株式会社
洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-179186 Applicant：株式会社日立製作所

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