Pat
J-GLOBAL ID：200903048132388480

有機質汚れの高度洗浄方法

Inventor：
水谷 淳二

About 水谷 淳二


Applicant, Patent owner：
株式会社ササクラ

About 株式会社ササクラ


Agent (1)： 景山 憲二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997035497
Publication number (International publication number)：1998223588
Application date： Feb. 03, 1997
Publication date： Aug. 21, 1998
Summary：
【要約】【課題】 有機質汚れのある基板を高度に洗浄処理する。【解決手段】 有機質汚れのある基板1に低圧水銀灯2で紫外線を照射し、この状態で、硫酸アンモニウム水溶液を溜めた容器4、ポンプ5、電解槽7等によって製造された過硫酸アンモニウム水溶液をノズル3から基板1上に滴下し、その表面を濡れた状態にして、液状酸化剤の薄液膜を形成させる。【効果】 紫外線及び液状酸化剤の両方が極めて効果的に作用し、強力な洗浄効果を発揮して基板の有機質汚れを完全に除去し、高度な清浄状態にすることができる。
Claim (excerpt)：
有機質汚れのある被洗浄物に紫外線を照射し、この状態で前記被洗浄物に酸化剤薬液を供給することを特徴とする有機質汚れの洗浄方法。
IPC (3)：
H01L 21/304 341 ,  B08B 3/08 ,  B08B 7/00
FI (3)：
H01L 21/304 341 M ,  B08B 3/08 A ,  B08B 7/00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
  • 基板表面からの有機物の気相除去方法並びに装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-135753   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-179225
  • 洗浄方法及び洗浄装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-031430   Applicant：ソニー株式会社
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM