光学マスクの欠陥修正方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：作田康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998350944
Publication number (International publication number)：1999258777
Application date： Dec. 12, 1991
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：

【要約】【目的】位相シフトマスクの欠陥修正において、欠陥の形状によらない、高精度かつ容易に修正できる、光学マスク及びその修正方法の提供にある。【構成】位相シフトマスクの位相シフターとガラス基板間にエッチングストッパ層を設け、位相シフターの欠陥を荷電ビームとエッチングガスを組み合わせた反応性処理により、位相シフターの欠陥を選択性良く除去し、欠陥の形状に影響されずに、加工深さ精度の良い修正ができる。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に遮光パターンを形成し、該遮光パターンの特定の開口部に露光光の位相を変える位相シフターを設けた投影光学系用マスクにおける前記位相シフターの欠陥を修正する方法であって、前記位相シフターの欠陥の近傍にフッ素系のガスをガスノズルから供給し、該フッ素系のガスを供給した状態で前記位相シフターの欠陥を含む領域に集束したイオンビームを照射し、該イオンビームの照射により前記位相シフターの欠陥を含む領域と該領域の下部の前記ガラス基板の一部とを除去加工することを特徴とする光学マスクの欠陥修正方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 , H01L 21/027 , H01L 21/3065

FI (3)：

G03F 1/08 T , H01L 21/30 502 W , H01L 21/302 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平3-196041
特開平4-288542
レチクル及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-145114 Applicant：富士通株式会社

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