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J-GLOBAL ID:200903048589735801
ガス化装置の監視システム
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
光石 俊郎
, 光石 忠敬
, 田中 康幸
, 松元 洋
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003186546
Publication number (International publication number):2005024251
Application date: Jun. 30, 2003
Publication date: Jan. 27, 2005
Summary:
【課題】ガス化ガス及び排ガス及び排水中の状態を常に把握することができるガス化装置の監視システムを提供することを課題とする。【解決手段】燃料201及び空気201を供給し生成ガス101を得るガス化炉102と、生成した生成ガス102中の微粒子を除去するフィルタ120と、生成ガスを利用する燃料利用設備である燃焼器を備えたガスタービン111とを具備するガス化装置において、生成ガス中のガス成分及びダスト量及び水蒸気量及び炭化水素(HC)量を計測する計測装置100とを具備する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
燃料及び空気を供給し生成ガスを得るガス化炉と、
生成した生成ガス中の微粒子を除去するフィルタと、
生成ガスを利用する燃料利用設備とを
具備するガス化装置において、
生成ガス中のガス成分及びダスト量及び水蒸気量及び炭化水素量を計測する計測装置を具備することを特徴とするガス化装置の監視システム。
IPC (9):
G01N21/63
, C10J3/46
, F01K23/10
, F02C3/28
, F02C6/18
, F02C7/00
, G01N21/53
, G01N21/64
, G01N21/65
FI (9):
G01N21/63 Z
, C10J3/46 L
, F01K23/10 T
, F02C3/28
, F02C6/18 A
, F02C7/00 A
, G01N21/53 Z
, G01N21/64 Z
, G01N21/65
F-Term (53):
2G043AA01
, 2G043BA10
, 2G043BA11
, 2G043BA13
, 2G043BA14
, 2G043CA01
, 2G043DA05
, 2G043EA01
, 2G043EA03
, 2G043EA10
, 2G043EA13
, 2G043EA14
, 2G043FA05
, 2G043GA01
, 2G043GB01
, 2G043HA02
, 2G043HA11
, 2G043JA01
, 2G043KA01
, 2G043KA05
, 2G043KA09
, 2G043LA03
, 2G043NA01
, 2G059AA01
, 2G059BB01
, 2G059CC04
, 2G059CC06
, 2G059CC09
, 2G059CC13
, 2G059CC19
, 2G059DD12
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE03
, 2G059EE06
, 2G059EE07
, 2G059EE12
, 2G059FF06
, 2G059FF10
, 2G059GG01
, 2G059HH01
, 2G059HH06
, 2G059JJ01
, 2G059JJ13
, 2G059JJ23
, 2G059KK03
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 3G081BA02
, 3G081BA13
, 3G081BB00
, 3G081BC07
, 3G081DA21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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ガス化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-083570
Applicant:三菱重工業株式会社
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複合発電プラント
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-331791
Applicant:三菱重工業株式会社
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半導体レーザ分光法を用いた温度・濃度・化学種の高速計測方法および計測システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-243643
Applicant:株式会社堀場製作所, 宮内敏雄, 中島健, 池田裕二, 西華産業株式会社
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ガス濃度測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-055454
Applicant:アンリツ株式会社, 東京瓦斯株式会社
-
ラマン分光分析と粒度分布測定を同時に行う分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-138049
Applicant:株式会社堀場製作所
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排ガス中のPM測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-180636
Applicant:株式会社堀場製作所
-
気体温度の測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-265845
Applicant:株式会社移動体通信先端技術研究所
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Article cited by the Patent:
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