Pat

J-GLOBAL ID：200903093711408464

半導体レーザ分光法を用いた温度・濃度・化学種の高速計測方法および計測システム

Inventor： 中島 健 ,  池田 裕二 ,  宮▲崎▼ 和宏
Applicant, Patent owner： 株式会社堀場製作所 ,  宮内 敏雄 ,  中島 健 ,  池田 裕二 ,  西華産業株式会社
Agent (1)： 藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998243643
Publication number (International publication number)：2000074830
Application date： Aug. 28, 1998
Publication date： Mar. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】 コンパクトな装置構成によって、燃焼場に存在する燃料や燃焼ガスの温度・濃度・化学種を数10kHz以上の高時間分解能で時系列計測できる半導体レーザ分光法を用いた温度・濃度・化学種の高速計測方法および計測システムを提供すること。【解決手段】 2μm付近のレーザ光をアイソレータと光ファイバとを介して被測定ガスに照射するとともに、前記レーザ光の波長掃引を行うようにした。

Claim (excerpt)：

2μm付近のレーザ光をアイソレータと光ファイバとを介して被測定ガスに照射するとともに、前記レーザ光の波長掃引を行うようにしたことを特徴とする半導体レーザ分光法を用いた温度・濃度・化学種の高速計測方法。

F-Term (22)：

2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059CC04 ,  2G059CC05 ,  2G059CC09 ,  2G059DD12 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059FF10 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG03 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059KK01 ,  2G059LL03 ,  2G059MM01 ,  2G059MM17 ,  2G059NN01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• ガス濃度測定方法およびその測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-052648   Applicant：東京電力株式会社, 日立電線株式会社
• 炭素同位体分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-110993   Applicant：日本無線株式会社
• レーザ分光分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-042971   Applicant：森村正直, 横河電機株式会社
• 炭素同位体分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-121683   Applicant：日本無線株式会社
• ガス濃度測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-095745   Applicant：三菱重工業株式会社
• ガス濃度測定方法およびその測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-052649   Applicant：東京電力株式会社, 日立電線株式会社
• 特開平3-095465