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J-GLOBAL ID：200903048596195170

スルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置

Inventor：
多以良 務

About 多以良 務

, 
平野 啓二

About 平野 啓二


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 開口 宗昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998319307
Publication number (International publication number)：2000140865
Application date： Nov. 10, 1998
Publication date： May. 23, 2000
Summary：
【要約】【課題】有機排気からスルホキシド類有機硫黄化合物とともにアミン類有機化合物を除去することができ且つ有害な化合物を生成しないスルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置を提供する。【解決手段】スルホキシド類有機硫黄化合物含有排気を洗浄水12に接触させてスルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させる気液接触部2が設置されてなる洗浄塔1と、洗浄水12に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部0と、過酸化水素を含有する洗浄水12に紫外線を照射する紫外線ランプ10が設置されてなる紫外線照射部3とを有してなり、スルホキシド類有機硫黄化合物含有排気を洗浄水12に接触させてスルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、洗浄水12に過酸化水素共存下紫外線を照射しスルホキシド類有機硫黄化合物を分解する。以上により上記目的を達成することができる。
Claim (excerpt)：
スルホキシド類有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射し、スルホキシド類有機硫黄化合物を分解することを特徴とするスルホキシド類含有排気の処理方法。
IPC (4)：
C02F 1/72 ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/48 ,  C02F 1/32
FI (4)：
C02F 1/72 Z ,  B01D 53/18 C ,  C02F 1/32 ,  B01D 53/34 121 C
F-Term (35)：
4D002AA05 ,  4D002AA14 ,  4D002BA02 ,  4D002BA05 ,  4D002BA09 ,  4D002CA01 ,  4D002DA35 ,  4D002DA52 ,  4D002EA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB09 ,  4D020AA08 ,  4D020AA10 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB25 ,  4D020DA01 ,  4D020DB08 ,  4D037AA01 ,  4D037AB12 ,  4D037AB13 ,  4D037BA18 ,  4D037BB09 ,  4D037CA11 ,  4D037CA14 ,  4D050AA01 ,  4D050AB17 ,  4D050AB18 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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