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J-GLOBAL ID：200903048623753156

中性子取扱施設及びその部品交換方法

Inventor： 友部 剛志 ,  道下 秀紀 ,  相沢 賢司 ,  日野 竜太郎 ,  神永 雅紀 ,  麻生 智一 ,  粉川 広行 ,  木下 秀孝
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日本原子力研究所
Agent (1)： 小川 勝男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999222258
Publication number (International publication number)：2001051098
Application date： Aug. 05, 1999
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】設備の交換時間の短縮、設備取扱性、遠隔操作性向上を図ることができる中性子取扱施設を提供する。【解決手段】支持装置に固定保持され、陽子ビームの衝突により中性子を発生する中性子発生装置1と、該中性子発生装置の周囲に配置された反射体ケーシングと、該反射体ケーシングを囲むように配置された生体遮蔽体2とを備え、前記中性子発生装置およびその周囲部品を交換するに際し、前記中性子発生装置を支持している支持装置と共に前記中性子発生装置を前記生体遮蔽体2の外側に導きだし、生体遮蔽体の外側で前記部品若しくは装置を交換するように形成されている中性子取扱施設において、前記交換される部品もしくは装置の内、交換頻度の高いものと交換頻度の低いものとをそれぞれ別な支持装置に支持させ、かつそれぞれ支持装置毎に前記生体遮蔽体の外側に導き出せるように形成した。

Claim (excerpt)：

支持装置に固定保持され、陽子ビームの衝突により中性子を発生する中性子発生装置と、該中性子発生装置の周囲に配置された反射体ケーシングと、該反射体ケーシングを囲むように配置された生体遮蔽体とを備え、前記中性子発生装置およびその周囲部品を交換するに際し前記中性子発生装置を支持している支持装置と共に前記中性子発生装置を前記生体遮蔽体の外側に導きだし、生体遮蔽体の外側で前記部品若しくは装置を交換するように形成されている中性子取扱施設において、前記交換される部品もしくは装置の内、交換頻度の高いものと交換頻度の低いものとをそれぞれ別な支持装置に支持させ、かつそれぞれ支持装置毎に前記生体遮蔽体の外側に導き出せるように形成したことを特徴とする中性子取扱施設。

IPC (4)：

G21G 4/02 ,  G21F 3/00 ,  G21H 5/00 ,  G21K 5/02

FI (4)：

G21G 4/02 ,  G21F 3/00 N ,  G21H 5/00 Z ,  G21K 5/02 N