感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物と、フォトレジストパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：八田幹雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003009484
Publication number (International publication number)：2003313249
Application date： Jan. 17, 2003
Publication date： Nov. 06, 2003
Summary：

【要約】【課題】 PAGと感光性ポリマーとを含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】 PAGと、酸により分解可能な置換基または極性作用基を有するコモノマーと、アルキルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体とを含む感光性ポリマーよりなるレジスト組成物。前記共重合体は次の式で表示される;【化1】(式中、kは3〜8の整数であり、XはC7〜C20の第3級環状アルコール由来の水酸基を有する1価の基である。)。

Claim (excerpt)：

次の式で表示される、アルキルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体を含む感光性ポリマー;【化1】(式中、kは3〜8の整数であり、XはC7〜C20の第3級環状アルコール(tertiary cyclic alcohol)由来の水酸基を有する1価の基である。)。

IPC (5)：

C08F216/20 , C08F220/18 , C08F222/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (5)：

C08F216/20 , C08F220/18 , C08F222/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (37)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J100AE09P , 4J100AE09Q , 4J100AE09R , 4J100AK32P , 4J100AK32Q , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AR11R , 4J100AR11S , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA15R , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC12P , 4J100BC12R , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

米国特許第5,843,624号明細書
ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-188853 Applicant：日本電気株式会社

Cited by examiner (2)

遠紫外線露光用ネガ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-154644 Applicant：富士写真フイルム株式会社
感光性ポリマーおよびこれを含有する化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-354974 Applicant：三星電子株式会社

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