感光性ポリマーおよびこれを含有する化学増幅型レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：八田幹雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000354974
Publication number (International publication number)：2001188352
Application date： Nov. 21, 2000
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】製造コストが低廉でありつつ乾式蝕刻に対する耐性を十分に確保すると同時に、下部膜質に対する優れた接着特性を持つ感光性ポリマーおよびこれを含有するArFエクシマレーザ用レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】重量平均分子量が3,000〜100,000であり、式【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基であり、R2 は酸により分解されうる第3アルキル基であり、m/(m+n)=0.5〜0.8である。)で示される感光性ポリマーである。

Claim (excerpt)：

重量平均分子量が3,000〜100,000であり、式【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基であり、R2 は酸により分解されうる第3アルキル基であり、m/(m+n)=0.5〜0.8である。)で示される感光性ポリマー。

IPC (9)：

G03F 7/039 601 , C08F220/18 , C08F222/06 , C08K 5/00 , C08L 33/06 , C08L 35/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (9)：

G03F 7/039 601 , C08F220/18 , C08F222/06 , C08K 5/00 , C08L 33/06 , C08L 35/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

化学的に増幅されたレジスト
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-129514 Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-099274 Applicant：富士写真フイルム株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-191559 Applicant：住友化学工業株式会社

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