プラズマ処理装置及び方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：山川政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001010781
Publication number (International publication number)：2002158216
Application date： Jan. 18, 2001
Publication date： May. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】高周波の電磁界により生成されたプラズマの分布を改善する。【解決手段】放射面31に形成された複数のスロット34より処理容器11内に電磁界を放射するスロットアンテナ30を用いたプラズマ処理装置であって、スロットアンテナ30が、その放射面31の法線方向Zに対して傾斜する方向に電磁界を放射する。

Claim (excerpt)：

処理容器内に収容され被処理体を配置する載置面を有する載置台と、この載置台の載置面に対向配置され放射面に形成された複数のスロットより前記処理容器内に電磁界を放射するスロットアンテナとを備えたプラズマ処理装置において、前記スロットアンテナは、前記放射面の法線方向に対して傾斜する方向に前記電磁界を放射することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/3065 , B01J 19/08 , C23C 16/52 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (5)：

B01J 19/08 H , C23C 16/52 , H01L 21/205 , H05H 1/46 L , H01L 21/302 B

F-Term (38)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA61 , 4G075BC01 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075CA24 , 4G075CA25 , 4G075CA47 , 4G075EA01 , 4G075EB01 , 4G075EB41 , 4G075EC30 , 4G075FC15 , 4K030FA03 , 4K030JA14 , 4K030KA10 , 4K030KA15 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB32 , 5F004DA01 , 5F004DA23 , 5F045AA09 , 5F045AB04 , 5F045AC01 , 5F045AC15 , 5F045AD05 , 5F045AD06 , 5F045AD07 , 5F045BB15 , 5F045DP04 , 5F045EB02 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EJ01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

プラズマ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-176443 Applicant：株式会社東芝
偏波共用型平板アンテナ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-106269 Applicant：トヨタ自動車株式会社
特開平3-191973

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