クリーンルームおよび基板搬送システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：金本哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994040385
Publication number (International publication number)：1995263172
Application date： Feb. 15, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】クリーンルーム内の被処理体表面の有機物汚染を防止し、表面抵抗率の経時的増加を抑えることができるクリーンルームを提供する。【構成】本発明によれば、クリーンルーム100の外気取入系、空気循環系またはそれら双方にガス状不純物除去装置200を設けることにより、クリーンルーム内の清浄空気に含有される炭化水素系ガスの濃度を0.1ppm以下、好ましくは0.05ppm以下、さらに好ましくは0.01ppm以下に抑えられる。その結果、炭化水素系ガスに起因する半導体ウェハやLCD基板などの被処理体の有機物汚染の経時的増大を効果的に抑え、被処理体の表面抵抗率の増大を抑えることが可能となり、帯電によるパーティクルの吸着や、形成された素子の絶縁破壊などの不測の事態を防止することが可能であり、製品の歩留まりを向上させることができる。

Claim (excerpt)：

外気と隔離された空間内に清浄空気を供給し循環させるクリーンルームにおいて、その清浄空気に含有される炭化水素系ガス濃度を0.1ppm以下に抑えたことを特徴とする、クリーンルーム。

IPC (4)：

H05F 3/02 , H01L 21/02 , H05F 3/04 , H05F 3/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

基材又は基板表面の汚染防止方法と装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-222775 Applicant：株式会社荏原総合研究所, 株式会社荏原製作所
炭化水素の検出方法及び基材又は基板表面の汚染防止方法と装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-207005 Applicant：株式会社荏原総合研究所, 株式会社荏原製作所
炭化水素の除去方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-105092 Applicant：株式会社荏原総合研究所

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