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J-GLOBAL ID：200903049278945752

活性なケイ素を含むケイ素酸化物及びその評価方法

Inventor：
福岡 宏文

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荒又 幹夫

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藤岡 一俊

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上野 進

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福田 健

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Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

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Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000027837
Publication number (International publication number)：2001220125
Application date： Feb. 04, 2000
Publication date： Aug. 14, 2001
Summary：
【要約】【解決手段】 十分なる緩和時間を設定して測定した固体NMR(29SiDD/MAS)測定において、そのスペクトルが-70ppmを中心としたブロードなピーク(A1)と-110ppmを中心としたブロードなピーク(A2)の2つのピークに分離して測定され、この面積比(A1/A2)の値が0.1≦A1/A2≦1.0の範囲である一般式SiOX(但し、Xの範囲が0.8〜1.9)で示される活性なケイ素を含むケイ素酸化物。【効果】 本発明によれば、市場で要求される活性なケイ素を含むケイ素酸化物の物性が判明し、かつその測定方法が確立でき、今後、活性なケイ素を含むケイ素酸化物を製造する上での指針となり得ることができる。加えて、この活性なケイ素を含むケイ素酸化物を他の元素との反応に用いることで効率的かつ容易にケイ素化合物を製造することができる。
Claim (excerpt)：
十分なる緩和時間を設定して測定した固体NMR(29SiDD/MAS)測定において、そのスペクトルが-70ppmを中心としたブロードなピーク(A1)と-110ppmを中心としたブロードなピーク(A2)の2つのピークに分離して測定され、この面積比(A1/A2)の値が0.1≦A1/A2≦1.0の範囲である一般式SiOX(但し、Xの範囲が0.8〜1.9)で示される活性なケイ素を含むケイ素酸化物。
IPC (5)：
C01B 33/113 ,  G01N 23/20 ,  G01N 24/08 ,  H01M 4/02 ,  H01M 10/40
FI (6)：
C01B 33/113 Z ,  G01N 23/20 ,  H01M 4/02 D ,  H01M 10/40 Z ,  G01N 24/08 510 S ,  G01N 24/08 510 P
F-Term (36)：
2G001AA01 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001GA01 ,  2G001JA12 ,  2G001KA01 ,  2G001NA07 ,  2G001RA03 ,  4G072AA24 ,  4G072BB05 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH14 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072RR13 ,  4G072TT05 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30 ,  5H029AJ14 ,  5H029AL01 ,  5H029DJ16 ,  5H029HJ01 ,  5H029HJ02 ,  5H029HJ07 ,  5H029HJ13 ,  5H050AA19 ,  5H050CB01 ,  5H050FA17 ,  5H050FA19 ,  5H050FA20 ,  5H050HA01 ,  5H050HA02 ,  5H050HA07 ,  5H050HA13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (9)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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