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J-GLOBAL ID：200903049285867902
レボジオンの製造法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
清水 初志
, 橋本 一憲
, 新見 浩一
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003569851
Publication number (International publication number)：2005517448
Application date： Feb. 15, 2003
Publication date： Jun. 16, 2005
Summary：
分子量61,300±5,000Da;補助因子としてのNADPHおよびNADH;pH7.4における最適温度55〜60°C;最適pH4.5〜8.5;および特に酵母に由来するα,β-不飽和ケトンにおける基質特異性によって特徴付けられるエノン還元酵素、ならびにケトイソホロンからレボジオンを調製する方法を提供する。
Claim (excerpt)：
液体培地中NADHまたはNADPHの存在下でケトイソホロンをNADPH脱水素酵素に接触させる段階、および結果として生じるレボジオンを反応混合物から単離する段階を含む、ケトイソホロンからレボジオンを製造する方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (15)：
4B024AA03
, 4B024BA08
, 4B024CA04
, 4B024CA20
, 4B024DA06
, 4B024DA12
, 4B024EA04
, 4B064AC37
, 4B064CA06
, 4B064CA19
, 4B064CA21
, 4B064CB17
, 4B064CC24
, 4B064CD05
, 4B064DA20
