Pat
J-GLOBAL ID：200903049321925310

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
阿出川 豊

About 阿出川 豊

, 
白川 浩司

About 白川 浩司


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001028335
Publication number (International publication number)：2001312055
Application date： Feb. 05, 2001
Publication date： Nov. 09, 2001
Summary：
【要約】【課題】 高解像力を有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物、更に高解像力に加えて高感度なポジ型電子線又はX線レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)電子線あるいはX線の照射により酸を発生する化合物、(B1)酸の作用により分解しうる基を有し、アルカリ現像液に対する溶解度が酸の作用により増大する分子量1000を超え、分子量3000以下の低分子溶解阻止化合物、を含有するポジ型レジスト組成物において、該低分子溶解阻止化合物の酸の作用により分解しうる基以外の部分に2個以上のトリフェニルメタン構造が非共役的に連結した構造を有することを特徴とするポジ型電子線またはX線レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)電子線あるいはX線の照射により酸を発生する化合物、(B1)酸の作用により分解しうる基を有し、アルカリ現像液に対する溶解度が酸の作用により増大する分子量1000を超え、分子量3000以下の低分子溶解阻止化合物、を含有するポジ型レジスト組成物において、該低分子溶解阻止化合物の酸の作用により分解しうる基以外の部分に2個以上のトリフェニルメタン構造が非共役的に連結した構造を有することを特徴とするポジ型電子線またはX線レジスト組成物。
IPC (7)：
G03F 7/004 501 ,  C07C 39/15 ,  C07C 39/17 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/134 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/027
FI (7)：
G03F 7/004 501 ,  C07C 39/15 ,  C07C 39/17 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/134 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-125006   Applicant：株式会社東芝
  • 化学増幅ポジ型レジスト材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-251341   Applicant：信越化学工業株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-162256   Applicant：ジェイエスアール株式会社

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM