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J-GLOBAL ID:200903027271377208

感放射線性樹脂組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998162256
Publication number (International publication number):1999352677
Application date: Jun. 10, 1998
Publication date: Dec. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】 特にKRFエキシマレーザー等の遠紫外線に対して高い透過率を有し、感度、解像性能およびパターン形状に優れる、昇華性の低い特定の感放射線性酸発生剤と、特定のアセタール基を有する樹脂とを含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 組成物は、(A)下記式(1)で表される感放射線性酸発生剤、【化1】〔式(1)において、Xは脂肪族、脂環族または芳香族の2価の基、R1 は(シクロ)アルキル基またはアリール基を示す。〕並びに(B)4-ヒドロキシスチレン/4-(1’-エトキシエトキシ)スチレン共重合体、4-ヒドロキシスチレン/4-(1’-エトキシエトキシ)スチレン/4-t-ブトキシスチレン共重合体等で代表される樹脂、あるいはさらに4-ヒドロキシスチレン/4-t-ブトキシスチレン共重合体等で代表される他の樹脂を含有する。
Claim (excerpt):
(A)下記式(1)で表される感放射線性酸発生剤、【化1】〔式(1)において、Xは置換されていてもよい脂肪族、脂環族または芳香族の2価の基を示し、R1 は置換されていてもよい直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基または置換されていてもよいアリール基を示す。〕並びに(B)下記式(2)で表される繰返し単位と下記式(3)で表される繰返し単位とを必須の単位として有する樹脂【化2】〔式(2)において、R2 は水素原子またはメチル基を示し、R3 およびR4 は相互に独立に水素原子または直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。〕【化3】〔式(3)において、R5 は水素原子またはメチル基を示す。〕を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (5):
G03F 7/004 503 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/004 503 A ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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