感光性パラジウム高分子キレート化合物、無電解メッキ用塗布液、および金属微細線パターンの形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：土橋皓
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998338410
Publication number (International publication number)：2000147762
Application date： Nov. 13, 1998
Publication date： May. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】紫外線等の励起エネルギに対する高い露光感度を有し、現像性、解像性、触媒活性、無電解メッキ性等に優れた感光性パラジウム高分子キレート化合物、この感光性パラジウム高分子キレート化合物を用いた無電解メッキ用塗布液、およびこの無電解メッキ用塗布液を用いた金属微細線パターンの形成方法を提供することを課題とする。【解決手段】パラジウムと、シュウ酸と、重合度が 1500 以下のポリビニルアルコールから構成され、前記シュウ酸と前記パラジウムがモル比で 0.3〜4.5 、前記ポリビニルアルコールと前記パラジウムが重量比で 0.5〜 12 であることを特徴とする感光性パラジウム高分子キレート化合物、この感光性パラジウム高分子キレート化合物を用いた無電解メッキ用塗布液、およびこの無電解メッキ用塗布液を用いた金属微細線パターンの形成方法を構成する。

Claim (excerpt)：

パラジウムと、シュウ酸と、重合度が 1500 以下のポリビニルアルコールから構成され、前記シュウ酸と前記パラジウムがモル比で 0.3〜4.5 、前記ポリビニルアルコールと前記パラジウムが重量比で 0.5〜 12 であることを特徴とする感光性パラジウム高分子キレート化合物。

IPC (2)：

G03F 7/029 , G03F 7/032

FI (2)：

G03F 7/029 , G03F 7/032

F-Term (14)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA19 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BB03 , 2H025BD46 , 2H025EA04 , 2H025FA17 , 2H025FA43

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平4-127154
配線基板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-374048 Applicant：住友大阪セメント株式会社
特許第2956179号

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