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J-GLOBAL ID：200903049391987267

感光性パラジウム高分子キレート化合物、無電解メッキ用塗布液、および金属微細線パターンの形成方法

Inventor：
木下 暢

About 木下 暢

, 
藤橋 岳

About 藤橋 岳


Applicant, Patent owner：
住友大阪セメント株式会社

About 住友大阪セメント株式会社


Agent (1)： 土橋 皓
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998338410
Publication number (International publication number)：2000147762
Application date： Nov. 13, 1998
Publication date： May. 26, 2000
Summary：
【要約】【課題】 紫外線等の励起エネルギに対する高い露光感度を有し、現像性、解像性、触媒活性、無電解メッキ性等に優れた感光性パラジウム高分子キレート化合物、この感光性パラジウム高分子キレート化合物を用いた無電解メッキ用塗布液、およびこの無電解メッキ用塗布液を用いた金属微細線パターンの形成方法を提供することを課題とする。【解決手段】 パラジウムと、シュウ酸と、重合度が 1500 以下のポリビニルアルコールから構成され、前記シュウ酸と前記パラジウムがモル比で 0.3〜4.5 、前記ポリビニルアルコールと前記パラジウムが重量比で 0.5〜 12 であることを特徴とする感光性パラジウム高分子キレート化合物、この感光性パラジウム高分子キレート化合物を用いた無電解メッキ用塗布液、およびこの無電解メッキ用塗布液を用いた金属微細線パターンの形成方法を構成する。
Claim (excerpt)：
パラジウムと、シュウ酸と、重合度が 1500 以下のポリビニルアルコールから構成され、前記シュウ酸と前記パラジウムがモル比で 0.3〜4.5 、前記ポリビニルアルコールと前記パラジウムが重量比で 0.5〜 12 であることを特徴とする感光性パラジウム高分子キレート化合物。
IPC (2)：
G03F 7/029 ,  G03F 7/032
FI (2)：
G03F 7/029 ,  G03F 7/032
F-Term (14)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA19 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BB03 ,  2H025BD46 ,  2H025EA04 ,  2H025FA17 ,  2H025FA43
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 高密度配線基板の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-338409   Applicant：住友大阪セメント株式会社, 株式会社スミセデバイス
Cited by examiner (6)
  • 特開平4-127154
  • 配線基板の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-374048   Applicant：住友大阪セメント株式会社
  • 特許第2956179号
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