半導体装備の空気流入装置及びこれを用いた化学物汚染除去方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998144819
Publication number (International publication number)：1999114340
Application date： May. 26, 1998
Publication date： Apr. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】 O3のような化学物の汚染が、半導体装備に流入されることを抑制しうる半導体装備の空気流入装置及びこれを用いた化学物汚染除去方法を提供する。【解決手段】プリフィルター100と、空気吸入手段102のファンと、HEPAフィルター108とで構成された空気流入装置に炭素よりなる活性炭を胴体とする化学フィルター104をさらに構成して、空気流入装置を通して流入される空気中の化学物の汚染成分を除去する。このような半導体装置の空気流入装置を自然酸化膜に敏感な工程、例えば、HSG形成工程に使われるCVD装備に設けるとO3濃度を減少させて高いキャパシタンスが得られる。

Claim (excerpt)：

外部の空気を流入するための空気吸入手段と、前記空気吸入手段を通過した空気の化学物汚染成分を除去する化学フィルターと、前記化学フィルターを通過した空気の粒子汚染成分を除去するHEPAフィルターと、を順次に具備することを特徴とする半導体装備の空気流入装置。

IPC (5)：

B01D 46/00 , B01D 53/04 , C23C 16/44 , H01L 21/205 , H01L 21/31

FI (5)：

B01D 46/00 Z , B01D 53/04 A , C23C 16/44 D , H01L 21/205 , H01L 21/31 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-207685 Applicant：ソニー株式会社
多機能エアフィルター及び該フィルターが組込まれた空気循環式クリーンユニット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-319267 Applicant：株式会社ピュアレックス, 株式会社東芝
特開昭56-168816

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