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J-GLOBAL ID：200903049569755934

リソグラフィーにおける性能向上用塗布組成物および当該塗布組成物を使用したパターン形成方法

Inventor：
西 峰雄

About 西 峰雄


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 岡田 数彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995134731
Publication number (International publication number)：1996305022
Application date： May. 08, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：
【要約】【目的】リソグラフィーにおける性能向上用塗布組成物および当該塗布組成物を使用したパターン形成方法を提供する。【構成】キノンジアジド系フォトレジスト組成物塗布膜の上面に塗布して使用される塗布組成物であって、アルカリ性である塗布組成物。基板上に塗布されたキノンジアジド系フォトレジスト組成物塗布膜の上面に上記の塗布組成物を塗布し、光を投射してパターン潜像を転写し、次いで、加熱処理した後に現像を行う。【効果】1種類の表面塗布組成物を塗布するだけの簡単な方法により、高解像にて、転写パターンの形状および焦点深度が良好であり、且つ、転写パターン寸法の塗布膜厚による変化が小さく、良好な結果のパターンが形成される。
Claim (excerpt)：
キノンジアジド系フォトレジスト組成物塗布膜の上面に塗布して使用される塗布組成物であって、アルカリ性であることを特徴とする、リソグラフィーにおける性能向上用塗布組成物。
IPC (7)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/095 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027
FI (7)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/095 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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