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J-GLOBAL ID:200903049626274034
浸炭方法及び浸炭装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
森 哲也 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001012434
Publication number (International publication number):2002212702
Application date: Jan. 19, 2001
Publication date: Jul. 31, 2002
Summary:
【要約】【課題】 浸炭条件が通常とは異なる場合でも、通常の場合と同様の高品質の浸炭を再現性良く行うことが可能で、しかも経済的な浸炭方法及び浸炭装置を提供する。【解決手段】 浸炭期の圧力が13〜4000Paで、一酸化炭素の割合が30vol%以下である雰囲気ガス中で浸炭を行う浸炭装置を、被処理品4を収納する浸炭室3と、浸炭期の浸炭室3内の雰囲気ガス中の酸素濃度を測定する酸素センサー20と、酸素センサー20による測定結果に応じて浸炭室3内の雰囲気ガスの組成を調整するマスフローコントローラ5と、を備える構成とした。
Claim (excerpt):
13〜4000Paの圧力下、一酸化炭素の割合が30vol%以下である雰囲気ガス中で浸炭を行うに際して、浸炭時の前記雰囲気ガスの組成を分析し、その分析結果に応じて、温度,圧力,及び前記雰囲気ガスの組成のうち少なくとも一つを調整しながら浸炭を行うことを特徴とする浸炭方法。
IPC (3):
C23C 8/20
, C21D 1/06
, C21D 1/773
FI (3):
C23C 8/20
, C21D 1/06 A
, C21D 1/773 J
F-Term (3):
4K028AA01
, 4K028AC07
, 4K028AC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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真空浸炭処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-048636
Applicant:株式会社不二越
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雰囲気熱処理炉
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-294423
Applicant:株式会社日本テクノ
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特開昭53-015232
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