磁気抵抗ヘッド用成膜装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：北村欣一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996346218
Publication number (International publication number)：1998183347
Application date： Dec. 25, 1996
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】平坦で十数nm以下の極めて薄い膜を多層に形成し且つ膜の界面がクリーンな磁気抵抗ヘッド用の多層膜を誘導結合RFプラズマ支援マグネトロンスパッタ装置を使用して能率良く形成する装置を提供する【解決手段】磁気抵抗ヘッド用基板を出し入れする大気圧と10-6Pa台以下の高真空に変更自在のロードロック室と、該ロードロック室に真空搬送された基板にクリーニングを施すエッチング装置を備えた10-6Pa台以下の高真空の前処理室と、これらの室に真空搬送された基板に多層の成膜を施す複数台のスパッタ装置を備えた10-7Pa台以下の超高真空の真空成膜室とを有し、各スパッタ装置を、誘導結合RFプラズマ支援マグネトロンスパッタ装置とし、各スパッタ装置の前方にシャッターを設け、真空成膜室内に、基板に一様な一定方向の磁場を与える永久磁石と、基板を移動させるターンテーブルを設けた

Claim (excerpt)：

基板を大気中との間で出し入れする大気圧と10-6Pa台以下の高真空に変更自在のロードロック室と、該ロードロック室に気密の基板搬送路を介して接続され且つ搬入された該基板にクリーニングを施すエッチング装置を備えた10-6Pa台以下の高真空に排気される前処理室と、該前処理室及びロードロック室に気密の基板搬送路を介して接続され且つ内部に搬入された該基板に多層の成膜を施す複数台のスパッタ装置を備えた10-7Pa台以下の超高真空に排気される真空成膜室とを有し、各スパッタ装置を、ターゲットの背面に設けた磁石と該ターゲット上にRF誘導放電用コイルを備えた誘導結合RFプラズマ支援マグネトロンスパッタ装置とし、各スパッタ装置の前方にシャッターを設け、該真空成膜室内に、該基板の表面に一様な一定方向の磁場を与える永久磁石と、該基板を各ターゲットと対向する位置へ順次に移動させるターンテーブルを設けたことを特徴とする成膜装置。

IPC (3)：

C23C 14/56 , C23C 14/35 , H01F 41/18

FI (3)：

C23C 14/56 F , C23C 14/35 Z , H01F 41/18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

高真空・高速イオン処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-199962 Applicant：日本真空技術株式会社
スパッタリングカソード及びスパッタリング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-136125 Applicant：日本真空技術株式会社
特開平2-121312

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