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J-GLOBAL ID:200903049743066639

ガス状化学汚染物質除去装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 前田 清美
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998342159
Publication number (International publication number):2000167340
Application date: Dec. 01, 1998
Publication date: Jun. 20, 2000
Summary:
【要約】【課題】被処理空気中からのガス状化学汚染物質の除去を十分に行うことができ、しかも装置全体が小型でメンテナンスが容易であり、かつランニングコストの低減を期せるガス状化学汚染物質除去装置を提供する。【解決手段】空気入口3と空気出口4とを有するケーシング1内に、送風機7、エアワッシャ8およびケミカルフィルタ12、13を備え、送風機6の駆動により被処理空気が前記エアワッシャ、ケミカルフィルタの順に流通され、前記エアワッシャ8は繊維材製にして保水性と通風性を有するエレメント14を備え、同エレメント内を流通する被処理空気を、エレメントへ上方から散布した水と接触させて被処理空気中のガス状化学汚染物質が除去され、また、前記ケミカルフィルタ12、13は基材たる活性炭繊維に化学吸着剤を含浸せしめてシート状に成形したフィルタ20材をフィルタケーシング内に収容した構成のものとした。
Claim (excerpt):
空気入口と空気出口とを有するケーシング内に、送風機、エアワッシャおよびケミカルフィルタを備え、送風機の駆動により被処理空気が前記エアワッシャ、ケミカルフィルタの順に流通され、前記エアワッシャは繊維材製にして保水性と通風性を有するエレメントを備え、同エレメント内を流通する被処理空気を、エレメントへ上方から散布した水と接触させて被処理空気中のガス状化学汚染物質が除去されるガス状化学汚染物質除去装置。
IPC (5):
B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/77 ZAB ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/81
FI (4):
B01D 53/34 ZAB E ,  B01D 53/18 F ,  B01D 53/18 C ,  B01D 53/34 B
F-Term (32):
4D002AA02 ,  4D002AA13 ,  4D002BA02 ,  4D002BA04 ,  4D002BA12 ,  4D002BA13 ,  4D002CA04 ,  4D002CA07 ,  4D002CA13 ,  4D002DA35 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002EA13 ,  4D002GA03 ,  4D002GB03 ,  4D002HA08 ,  4D020AA06 ,  4D020AA10 ,  4D020BA23 ,  4D020BA30 ,  4D020BB03 ,  4D020BB07 ,  4D020BC06 ,  4D020BC10 ,  4D020CB28 ,  4D020CB33 ,  4D020CC01 ,  4D020CC09 ,  4D020CC13 ,  4D020CC14 ,  4D020DA01 ,  4D020DB02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • ガス不純物の除去装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-079434   Applicant:高砂熱学工業株式会社
  • 水噴霧式空気浄化装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-241547   Applicant:三機工業株式会社
  • 空調装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-060364   Applicant:三機工業株式会社
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