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J-GLOBAL ID：200903049851902486

金属酸化物膜の形成方法

Inventor：
中澤 明

About 中澤 明


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 野河 信太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999356117
Publication number (International publication number)：2001172006
Application date： Dec. 15, 1999
Publication date： Jun. 26, 2001
Summary：
【要約】【課題】 保護膜、透明電極膜又は誘電体膜を構成する金属酸化物膜を低コストで形成することを課題とする。【解決手段】 基板の所望の部位に、保護膜、透明電極膜又は誘電体膜を構成する金属酸化物膜の原料として、金属の脂肪族酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を塗布して一次膜を形成し、一次膜に酸化性雰囲気下で紫外線を照射することにより金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の形成方法により上記課題を解決する。
Claim (excerpt)：
基板の所望の部位に、保護膜、透明電極膜又は誘電体膜を構成する金属酸化物膜の原料として、金属の脂肪族酸塩又はアルコキシドを含む塗布組成物を塗布して一次膜を形成し、一次膜に酸化性雰囲気下で紫外線を照射することにより金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の形成方法。
IPC (10)：
C01B 13/14 ,  B05D 3/06 102 ,  B05D 7/00 ,  B05D 7/24 303 ,  C03C 17/27 ,  G02F 1/1343 ,  G09F 9/313 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02 ,  C03C 17/34
FI (10)：
C01B 13/14 Z ,  B05D 3/06 102 Z ,  B05D 7/00 H ,  B05D 7/24 303 E ,  C03C 17/27 ,  G02F 1/1343 ,  G09F 9/313 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B ,  C03C 17/34 Z
F-Term (62)：
2H092HA04 ,  2H092MA10 ,  2H092MA16 ,  2H092MA22 ,  2H092MA35 ,  2H092NA15 ,  2H092NA16 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  2H092PA06 ,  4D075BB20Z ,  4D075BB28Z ,  4D075BB46Y ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA21 ,  4D075EC02 ,  4D075EC08 ,  4G042DA01 ,  4G042DB08 ,  4G042DB24 ,  4G042DC01 ,  4G042DC03 ,  4G042DD02 ,  4G042DE08 ,  4G042DE09 ,  4G042DE14 ,  4G059AA06 ,  4G059AA08 ,  4G059AC14 ,  4G059AC30 ,  4G059EA01 ,  4G059EA02 ,  4G059EA03 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EB05 ,  5C027AA02 ,  5C027AA06 ,  5C027AA10 ,  5C040FA01 ,  5C040GA02 ,  5C040GA03 ,  5C040GC06 ,  5C040GC18 ,  5C040GD07 ,  5C040GD09 ,  5C040GE07 ,  5C040GE09 ,  5C040JA02 ,  5C040MA22 ,  5C040MA26 ,  5C094AA44 ,  5C094BA31 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094EA05 ,  5C094FB16 ,  5C094GB10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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