静電吸着ホットプレート、真空処理装置、及び真空処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石島茂男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997289078
Publication number (International publication number)：1999111829
Application date： Oct. 06, 1997
Publication date： Apr. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】基板の昇降温速度が大きく、正確な温度制御ができる技術を提供する。【解決手段】静電吸着ホットプレートの内部の、表面側に一対の第一の静電吸着パターン21、22を設け、底面側に一対の第二の静電吸着パターン41、42を設け、その間にヒータ6を設ける。真空槽7のプレート支持台15上に配置し、表面を載置面3として基板8を載置する場合、第一の静電吸着パターン41、42間に電圧を印加すると基板8が静電吸着され、ヒータ6からの熱によって加熱される。第二の静電吸着パターン41、42間に電圧を印加するとプレート支持台15との間の熱抵抗が小さく、電圧を印加しないと熱抵抗が大きくなる。プレート本体9は、分離可能にされた第一の部材と第二の部材とで構成し、第一静電吸着パターンとヒータとを第一の部材に、第二静電吸着パターンを第二の部材側に設けることができる。

Claim (excerpt)：

被加工物を載置する載置面が表面に形成されたプレート本体と、前記プレート本体内部で、前記載置面側に設けられた第一静電吸着パターンと、前記プレート本体内部で、前記載置面とは反対側の面側に設けられた第二静電吸着パターンと、前記第一静電吸着パターンと前記第二静電吸着パターンとの間に設けられたヒータとを有することを特徴とする静電吸着ホットプレート。

IPC (3)：

H01L 21/68 , B23Q 3/15 , H02N 13/00

FI (3)：

H01L 21/68 R , B23Q 3/15 D , H02N 13/00 D

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

多電極静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-180180 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
加熱冷却装置及びこれを用いた真空処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-018402 Applicant：日本真空技術株式会社
半導体製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-300971 Applicant：ソニー株式会社

Cited by examiner (3)

多電極静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-180180 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
加熱冷却装置及びこれを用いた真空処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-018402 Applicant：日本真空技術株式会社
半導体製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-300971 Applicant：ソニー株式会社

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