加圧型下方注入式多段オゾン接触槽とその制御方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996328079
Publication number (International publication number)：1998165971
Application date： Dec. 09, 1996
Publication date： Jun. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】装置の大型化を伴わずに被処理水に対するオゾンガスの吸収効率を高め、経時的な吸収効率低下現象が生じない実規模対応の加圧型下方注入式多段オゾン接触槽とその制御方法を提供することを目的とする。【解決手段】上下対向流式の多段オゾン接触槽11に被処理水20を送り込む流入管の中途部に分岐管15aを設けて、該分岐管15aに被処理水とオゾンガスとを気液混合する加圧渦流ポンプ17及びその出力管内の圧力を調整するための急縮弁19を配備して、該出力管を被処理水20の送水管を介して多段オゾン接触槽11の第1槽11a内に縦方向に挿入配置された下方注入管21に連結し、更に多段オゾン接触槽内11の越流部11dに過酸化水素注入管22を導入したことにより、溶存オゾンと過酸化水素からOHラジカルを生成するようにした加圧型下方注入式多段オゾン接触槽とその制御方法を提供する。

Claim (excerpt)：

上下対向流式の多段オゾン接触槽に被処理水を送り込む流入管の中途部に分岐管を設けて、該分岐管に被処理水とオゾンガスとを気液混合する加圧渦流ポンプ及び該加圧渦流ポンプの出力管内の圧力を調整するための急縮弁を配備して、該出力管を被処理水の送水管を介して多段オゾン接触槽の第1槽内に縦方向に挿入配置された下方注入管に連結し、更に多段オゾン接触槽内の越流部に過酸化水素注入管を導入したことにより、溶存オゾンと過酸化水素からOHラジカルを生成することを特徴とする加圧型下方注入式多段オゾン接触槽。

IPC (5)：

C02F 1/78 ZAB , C01B 13/10 , C01B 15/01 , C02F 1/72 , H01T 23/00

FI (5)：

C02F 1/78 ZAB , C01B 13/10 D , C01B 15/01 , C02F 1/72 Z , H01T 23/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

分離注入式オゾン接触方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-230590 Applicant：富士電機株式会社
特公平4-074049
生活用水の最適化されたオゾン化用反応器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-335689 Applicant：デグレマン

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