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J-GLOBAL ID：200903050069264924

超純水製造装置

Inventor：
田辺 円

About 田辺 円


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 畑中 芳実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996235887
Publication number (International publication number)：1998057956
Application date： Aug. 19, 1996
Publication date： Mar. 03, 1998
Summary：
【要約】【課題】 溶存酸素濃度が極めて低く、かつ、溶存窒素を含む全溶存ガス濃度も大きく低減した超純水を得ることが可能な超純水製造装置を提供する。【解決手段】 一次純水系システム8と二次純水系システム10とを備えた超純水製造装置において、二次純水系システム10に、紫外線酸化装置26、非再生型イオン交換装置40及び膜脱気装置50をこの順序に通水するように設置する。あるいは、膜脱気装置50の後段にさらに第2の非再生型イオン交換装置を設置する。
Claim (excerpt)：
一次純水系システムと二次純水系システムとを備えた超純水製造装置において、二次純水系システムに、紫外線酸化装置、非再生型イオン交換装置及び膜脱気装置をこの順序に通水するように設置したことを特徴とする超純水製造装置。
IPC (5)：
C02F 1/42 ,  B01D 19/00 ,  B01J 47/04 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/32
FI (5)：
C02F 1/42 A ,  B01D 19/00 H ,  B01J 47/04 B ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/32
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 超純水製造装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-020039   Applicant：野村マイクロ・サイエンス株式会社
  • 超純水製造装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-180018   Applicant：栗田工業株式会社
  • 特開平4-090890

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