レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995084730
Publication number (International publication number)：1996254820
Application date： Mar. 16, 1995
Publication date： Oct. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】酸分解性を有する化合物及び多価フェノールの部分スルホン酸エステルを含むレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が多価フェノールの部分スルホン酸エステルであることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-108882 Applicant：日本ゼオン株式会社
パタン形成材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-227820 Applicant：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
特開平2-245756

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