活性酸素発生装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：池内寛幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997321730
Publication number (International publication number)：1999158675
Application date： Nov. 21, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】【課題】活性酸素を連続的に効率良く発生させることが可能な装置を提供する。【解決手段】電極1と、活性酸素発生能を有するレドックスポリマーを表面に担持した粒子2とを、槽3の中に設置し、前記電極1に微弱電流を通電するとともに、この槽3内に水を導入する。前記粒子2が水中溶存酸素と接触することにより前記レドックスポリマーが前記水中溶存酸素を還元して活性酸素を発生し、酸化された前記レドックスポリマーが、前記電極1の陰極から電子を受けとることにより還元される。これにより、活性酸素が連続して大量に発生する。

Claim (excerpt)：

電極と、活性酸素発生能を有するレドックスポリマーを表面に担持した粒子とを有し、前記粒子が液中溶存酸素と接触することにより前記レドックスポリマーが前記液中溶存酸素を還元して活性酸素を発生し、酸化された前記レドックスポリマーが、前記電極の陰極から電子を受けとることにより還元される活性酸素発生装置。

IPC (2)：

C25B 1/30 , C02F 1/46

FI (2)：

C25B 1/30 , C02F 1/46 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

活性酸素発生剤およびそれを用いた活性酸素発生方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-338347 Applicant：森田健一
廃液処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-254063 Applicant：ノーリツ鋼機株式会社
ハロゲン化炭化水素の除去方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-032365 Applicant：木下彰久, 石黒祥子

Show all

Return to Previous Page