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J-GLOBAL ID：200903050264842991

パターン欠陥検査装置及びこれを用いたパターン欠陥検査方法

Inventor：
松嶋 啓仁

About 松嶋 啓仁


Applicant, Patent owner：
アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社

About アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社


Agent (3)： 松山 允之 ,  河西 祐一 ,  池上 徹真
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005095465
Publication number (International publication number)：2006275779
Application date： Mar. 29, 2005
Publication date： Oct. 12, 2006
Summary：
【解決手段】 【課題】 レチクルあるいはLSI自身のパターンの外観検査における、斜めエッジ部分の検査精度の向上を可能とする外観検査方法および装置を提供する。【解決手段】 レーザビームを走査させる照明光学系11と、試料面を検出するセンサ15と、検出手段から得られる検出信号を用いて試料面の画像を得て欠陥検出を行う比較回路25と、CADデータから作成した画像をステージと同じ角度だけ回転させた画像を作成する座標回転回路22と、試料12を保持しX軸、Y軸方向に駆動するXYステージ13とを備え、検査する斜めエッジ部分に平行な角度で走査を行うことを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
表面にパターンが形成されている試料と、該試料を保持する試料保持手段と、該試料に光を照射する光源と、該光源からの光を該試料上に合焦させる照明光学系と、該試料からの光を受光して電気信号に変換しセンサ画像を形成する撮像手段と、該試料表面に形成されているパターンの設計データからパターンの画像を構成する参照画像形成手段と、該センサ画像と該参照画像とを比較する比較手段とを少なくとも備えたパターン欠陥検出装置であって、 該試料に対して任意の角度で該光を走査させる手段と、該試料の走査角度と等しい角度で該参照画像を回転させる手段を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (1)：
G01N 21/956
FI (1)：
G01N21/956 A
F-Term (10)：
2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA10 ,  2G051CA04 ,  2G051CD03 ,  2G051DA08 ,  2G051ED15 ,  2G051ED22 ,  2G051FA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (5)
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