レジスト用剥離液組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：服部平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994246711
Publication number (International publication number)：1996087117
Application date： Sep. 16, 1994
Publication date： Apr. 02, 1996
Summary：

【要約】【構成】(a)Nーアルキルアルカノールアミン50〜90重量%と(b)1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン及びジエチレングリコールモノアルキルエーテルから選ばれる少なくとも1種50〜10重量%からなる組成物、及び前記組成物にさらに配合剤を配合したレジスト剥離液組成物。【効果】本発明のレジスト用剥離液組成物は、安全性、剥離性、腐食防止性等の性質に優れ、しかも過酷な剥離条件下においても安定に剥離作用を持続し、高品質の半導体素子や液晶パネル素子を製造できる。

Claim (excerpt)：

(a)Nーアルキルアルカノールアミン50〜90重量%と(b)1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン及びジエチレングリコールモノアルキルエーテルから選ばれる少なくとも1種50〜10重量%を含有することを特徴とするレジスト用剥離液組成物。

IPC (2)：

G03F 7/42 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開平4-289866
フォトレジスト剥離剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-338929 Applicant：ナガセ電子化学株式会社
特開昭64-042653

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