ポリオルガノシルセスキオキサン及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小野由己男 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001560260
Publication number (International publication number)：2003523422
Application date： Feb. 17, 2001
Publication date： Aug. 05, 2003
Summary：

【要約】【課題】ポリオルガノシルセスキオキサン及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、出発物質としてシラン系化合物を使用して得られる前駆体である1,3-ジオルガノシロキサンを重縮合せる段階を含む多様な製造方法を使用して得られ、従来のポリオルガノシルセスキオキサンに比べて取扱がより簡便であり、重合速度調節が容易であり、ポリマー主鎖に非常に規則的な構造を導入でき、ポリマーに高機能性及び多様な特性を付与できる。

Claim (excerpt)：

下記化学式1の化合物。【化1】 (式中、R1及びR2は独立的に水素、炭素原子数1ないし30の置換または非置換の脂肪族炭化水素基、炭素原子数1ないし30の置換または非置換の芳香族炭化水素基、炭素原子数1ないし30の置換または非置換の脂環族炭化水素基、炭素原子数1ないし30の置換または非置換のシリル基、炭素原子数1ないし30の置換または非置換のアリル基、炭素原子数1ないし30の置換または非置換のアシル基、ビニル基、アミン基、アセテートまたはアルカリ金属を表し、nは2ないし300,000の整数である。)

F-Term (8)：

4J035BA12 , 4J035CA022 , 4J035CA032 , 4J035CA102 , 4J035CA192 , 4J035CA292 , 4J035EA01 , 4J035EB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

ポリオルガノシルセスキオキサン及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-221898 Applicant：昭和電工株式会社
高純度シリコーンラダーポリマーおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-074171 Applicant：三菱電機株式会社
ポリシルセスキオキサン及びそのビニル重合体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-251196 Applicant：昭和電工株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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