配線基板とその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井桁貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995271330
Publication number (International publication number)：1997113932
Application date： Oct. 19, 1995
Publication date： May. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】分割露光のリソグラフィ法によって、配線が絶縁層介して積層形成される配線基板とその製造方法に関し、生産性を改善する。【解決手段】複数本の配線4と、配線4を覆う第1の絶縁層と、配線4に接続する端子7と、該第1の絶縁層の上の複数本の配線5と、配線5を覆う第2の絶縁層と、配線5に接続する端子8のそれぞれが、分割露光のリソグラフィ法によって少なくとも形成された配線基板において、端子7と8とが同一導電膜より形成され、配線4と端子7とが、該第1の絶縁層に設けたコンタクトホールを介して接続され、配線5と端子8とが、該第2の絶縁層に設けたコンタクトホールを介し接続されてなる。液晶表示パネル用TFT基板においては、端子7と8と画層電極6が同一導電膜から形成されてなる。

Claim (excerpt)：

複数本の第1の配線と、該第1の配線を覆う第1の絶縁層と、該第1の配線に接続する第1の引き出し端子と、該第1の絶縁層の上の複数本の第2の配線と、該第2の配線を覆う第2の絶縁層と、該第2の配線に接続する第2の引き出し端子のそれぞれが、分割露光のリソグラフィ法によって少なくとも形成された配線基板において、該第1の引き出し端子と該第2の引き出し端子とが第3の導電膜より形成され、該第1の引き出し端子と第1の導電膜から形成された該第1の配線とが、該第1の絶縁層に設けたコンタクトホールを介して接続され、該第2の引き出し端子と第2の導電膜から形成された該第2の配線とが、該第2の絶縁層に設けたコンタクトホールを介して接続されてなること、を特徴とする配線基板。

IPC (4)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1345 , H01L 29/786 , H01L 21/336

FI (3)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1345 , H01L 29/78 616 K

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

薄膜トランジスタ基板およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-311365 Applicant：アルプス電気株式会社
特開平3-170916
アクテイブマトリツクス液晶表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-236997 Applicant：日本電気株式会社

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