イオンの抽出方法およびその装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：上島淳一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005244648
Publication number (International publication number)：2007057432
Application date： Aug. 25, 2005
Publication date： Mar. 08, 2007
Summary：

【課題】レーザーアブレーションにより生成した分子を構成する構成原子のイオンを、後段の分析や解析で良好な結果が得られるように抽出する。【解決手段】分析対象に超短パルスレーザー光を照射して該分析対象をアブレーションすることにより、該分析対象を構成原子に原子化し、該原子化した構成原子をイオン化し、該イオン化した構成原子のイオンを抽出するイオンの抽出方法であって、逆電場をかけて上記アブレーションにより得られたイオンを減速した後に、順電場をかけて上記アブレーションにより得られたイオンから所定のイオンを加速することによりバックグラウンドイオンを除去して上記所定のイオンを抽出する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

分析対象に超短パルスレーザー光を照射して該分析対象をアブレーションすることにより、該分析対象を構成原子に原子化し、該原子化した構成原子をイオン化し、該イオン化した構成原子のイオンを抽出するイオンの抽出方法であって、逆電場をかけて前記アブレーションにより得られたイオンを減速した後に、順電場をかけて前記アブレーションにより得られたイオンから所定のイオンを加速することによりバックグラウンドイオンを除去して前記所定のイオンを抽出することを特徴とするイオンの抽出方法。

IPC (3)：

G01N 27/64 , G01N 27/62 , H01J 49/16

FI (3)：

G01N27/64 B , G01N27/62 E , H01J49/16

F-Term (13)：

2G041CA01 , 2G041DA03 , 2G041EA12 , 2G041FA10 , 2G041FA11 , 2G041FA12 , 2G041GA29 , 2G041GA30 , 2G041KA03 , 2G041KA10 , 5C038GG07 , 5C038GH06 , 5C038GH11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

半導体デバイス異物分析装置およびシステム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-314426 Applicant：株式会社日立製作所
有機微量成分の検出装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-170784 Applicant：三菱重工業株式会社
特開昭63-055846

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

“Direct Chemical Analysis of Solids by Laser Ablation in an Ion Storage Time-of-Flight Mass Spectro

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