ビ-ム照射装置と、フォ-カス制御装置と、情報記録媒体に対するビ-ム照射装置を有する光学装置と、情報記録媒体用原盤の製造方法と、情報記録媒体の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松隈秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999042367
Publication number (International publication number)：2000149284
Application date： Feb. 19, 1999
Publication date： May. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】微小ビームスポットを得ることができ、確実安定にフォーカス制御を行うことができるようにする。【解決手段】光ビーム、電子ビーム、イオンビームの少なくともいずれかのビームを発生するビーム発生源41と、このビーム発生源41からのビームを収束する収束レンズ48とを具備するビーム照射装置であって、その収束レンズ48によってビームを被照射体40に対してフォーカシングするように、この収束レンズを構成する同一レンズ系に対して、ビームのフォーカス装置をそれぞれ制御する少なくとも第1および第2のフォーカス制御機構71および72を設けた構成とする。

Claim (excerpt)：

光ビーム、電子ビーム、イオンビームの少なくともいづれかのビームを発生するビーム発生源と、該ビーム発生源からのビームを収束する収束レンズとを具備するビーム照射装置であって、上記収束レンズによって上記ビームを被照射体に対してフォーカシングするように、該収束レンズもしくは該収束レンズを構成する同一レンズ系に対して、上記ビームのフォーカス位置をそれぞれ制御する少なくとも第1および第2のフォーカス制御機構を重複して設けたことを特徴とするビーム照射装置。

IPC (3)：

G11B 7/09 , G11B 7/135 , G11B 7/26 501

FI (4)：

G11B 7/09 B , G11B 7/09 D , G11B 7/135 A , G11B 7/26 501

F-Term (20)：

5D118AA13 , 5D118BB09 , 5D118BF02 , 5D118BF03 , 5D118CA11 , 5D118CC12 , 5D118CD02 , 5D118FA49 , 5D119AA43 , 5D119DA01 , 5D119DA05 , 5D119EA03 , 5D119EB02 , 5D119JB02 , 5D121BA03 , 5D121BB02 , 5D121BB21 , 5D121BB28 , 5D121BB32 , 5D121EE26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

粗微動対物レンズ駆動装置及びその制御回路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-045878 Applicant：株式会社リコー
原盤露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-323745 Applicant：日立マクセル株式会社
特開昭51-107843

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