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J-GLOBAL ID：200903050793538661

燃料改質器の運転制御システム

Inventor：
水谷 安伸

About 水谷 安伸

, 
羽木 敏

About 羽木 敏

, 
鵜飼 健司

About 鵜飼 健司


Applicant, Patent owner：
東邦瓦斯株式会社

About 東邦瓦斯株式会社


Agent (1)： 上野 登
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000374324
Publication number (International publication number)：2002179404
Application date： Dec. 08, 2000
Publication date： Jun. 26, 2002
Summary：
【要約】【課題】 原料ガスと水蒸気等の改質用ガスの混合ガスから、改質触媒層中、触媒作用下で改質反応により水素ガスを生成する燃料改質器において、改質触媒層の温度を制御して効率よく水素ガスが生成される燃料改質器を提供すること。【解決手段】 燃料改質器10の触媒改質層12に、原料ガス、水蒸気を供給する原料ガス導入路14と、両ガスの流量を調整する流量調整器24,26と、改質触媒層12内を加熱するバーナ16に燃料ガスを供給する燃料ガス導入路18と、燃料ガスの流量を制御する燃料ガス流量調整器20とが設けられると共に、改質触媒層12のガス出口近傍にプロトン導電性セラミックスからなる水素センサ30が設けられ、水素センサ30により検知された水素濃度に基づいて改質触媒層12内の温度を演算器22によって算出し、算出された温度からバーナ16の加熱インプット量及び原料ガス、水蒸気の導入量及び混合割合を制御する。
Claim (excerpt)：
燃料改質器に設けられる改質触媒層に水素ガス生成用の原料ガスと水蒸気等の改質用ガスとの混合ガスを導入し、触媒作用下で改質反応により水素ガスを生成させるに際し、改質触媒層で生成される水素ガス濃度を検知し、その検知信号に基づいて燃料改質器の改質触媒層内の温度を制御し、及び/又は、この改質触媒層に供給される原料ガスと水蒸気の供給量を制御するようにしたことを特徴とする燃料改質器の運転制御システム。
IPC (5)：
C01B 3/38 ,  G01N 27/416 ,  G01N 27/406 ,  H01M 8/04 ,  H01M 8/06
FI (5)：
C01B 3/38 ,  H01M 8/04 G ,  H01M 8/06 G ,  G01N 27/46 371 G ,  G01N 27/58 Z
F-Term (22)：
2G004ZA01 ,  4G040EA03 ,  4G040EA05 ,  4G040EA06 ,  4G040EA07 ,  4G040EB03 ,  4G040EB12 ,  4G040EB43 ,  4G040EC02 ,  4G140EA03 ,  4G140EA05 ,  4G140EA06 ,  4G140EA07 ,  4G140EB03 ,  4G140EB12 ,  4G140EB43 ,  4G140EC02 ,  5H027KK31 ,  5H027KK42 ,  5H027MM12 ,  5H027MM13 ,  5H027MM14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
  • 燃料電池装置の制御方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-150724   Applicant：株式会社日立製作所, 東京瓦斯株式会社
  • 燃料電池発電装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-122525   Applicant：株式会社東芝
  • 特開平3-276055
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