現像工程で生じる排水の回収再利用方法及び装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三浦進二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000093716
Publication number (International publication number)：2001276825
Application date： Mar. 30, 2000
Publication date： Oct. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】現像工程で生じる排水を効果的な処理を行うことにより、現像工程で再利用することのできる該排水の回収再利用方法及び装置を提供する。【解決手段】現像工程で生じる排水を少なくとも膜処理装置で処理して得られる処理水を回収して現像工程で再利用する。該排水を逆浸透膜装置及びイオン交換装置で処理し、得られる処理水を更に処理工程の末端又はその近辺で孔径が1μm以下の濾過膜を備えた濾過膜装置で処理して得られる最終的な処理水を現像工程で再利用するのが好ましい。排水回収再利用装置は、上記の各単位装置に加えて、得られる処理水を現像工程に戻して再利用する為のライン(配管)を包含する。

Claim (excerpt)：

現像工程で生じる排水を少なくとも膜処理装置で処理して得られる処理水を現像工程で再利用することを特徴とする現像工程で生じる排水の回収再利用方法。

IPC (15)：

C02F 1/44 ZAB , B01D 61/02 500 , B01D 61/14 500 , B01D 61/48 , B01D 61/58 , C02F 1/20 , C02F 1/32 , C02F 1/42 , C02F 1/469 , C02F 1/72 101 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00 , C02F 9/00 503 , C02F 9/00 504 , H01L 21/027

FI (21)：

C02F 1/44 ZAB F , B01D 61/02 500 , B01D 61/14 500 , B01D 61/48 , B01D 61/58 , C02F 1/20 A , C02F 1/32 , C02F 1/42 D , C02F 1/72 101 , C02F 9/00 502 F , C02F 9/00 502 G , C02F 9/00 502 J , C02F 9/00 502 K , C02F 9/00 502 M , C02F 9/00 502 N , C02F 9/00 502 R , C02F 9/00 503 C , C02F 9/00 504 B , C02F 9/00 504 E , C02F 1/46 103 , H01L 21/30 569 Z

F-Term (59)：

4D006GA03 , 4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006KA52 , 4D006KA55 , 4D006KA57 , 4D006KA71 , 4D006KB04 , 4D006KB11 , 4D006KB17 , 4D006KE12P , 4D006KE13P , 4D006KE15P , 4D006KE19P , 4D006MA22 , 4D006PA01 , 4D006PB08 , 4D006PB27 , 4D006PC01 , 4D025AA09 , 4D025AB38 , 4D025BA08 , 4D025BA13 , 4D025BA25 , 4D025BB04 , 4D025DA01 , 4D025DA04 , 4D025DA05 , 4D025DA06 , 4D037AA13 , 4D037AB11 , 4D037AB12 , 4D037BA18 , 4D037BA23 , 4D037CA03 , 4D037CA04 , 4D037CA12 , 4D037CA15 , 4D050AA13 , 4D050AB17 , 4D050BB01 , 4D050BC09 , 4D050BD06 , 4D050CA03 , 4D050CA08 , 4D050CA09 , 4D050CA10 , 4D061DA08 , 4D061DB18 , 4D061EA02 , 4D061EA09 , 4D061EB13 , 4D061FA03 , 4D061FA07 , 4D061FA08 , 4D061FA09 , 4D061FA16 , 5F046LA12 , 5F046LA19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

リサイクル型レジストプロセス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-183821 Applicant：株式会社日立製作所
超純水製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-235642 Applicant：東レ株式会社
特開昭62-087299

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