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J-GLOBAL ID：200903051140736227

裏面アライメント機能を備えた露光装置

Inventor：
高野 格

About 高野 格


Applicant, Patent owner：
ウシオ電機株式会社

About ウシオ電機株式会社


Agent (1)： 長澤 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998144160
Publication number (International publication number)：1999340120
Application date： May. 26, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：
【要約】【課題】 帯状ワークのように連続したワークであっても、ワークの一方の面に形成された特異点を基準として、ワークの他方の面に上記特異点に対して一定の位置関係にあるパターンを精度良く形成できるようにすること。【解決手段】 マスクMの、ワークWbのサイズよりも外側の部分に、ワークアライメントマークWAMに対応するマスクアライメントマークMAMを設ける。また、2つの観察部4a,4bを有する2視野顕微鏡または相対位置が変化しないように固定した2個の顕微鏡の2視野間の距離、もしくは、2個の顕微鏡間の距離を上記マスクアライメントマークMAMとワークアライメントマークWAMの距離に一致するように製作する。そして、上記顕微鏡により、ワークの裏面に設けられたワークアライメントマークWAMと、マスクアライメントマークMAMとを、同時に検出し、マスクMとワークWbの位置合わせを行う。
Claim (excerpt)：
露光光を照射する光照射装置と、マスクパターンと、ワークサイズよりも外側の位置にマスクアライメントマークとが設けられたマスクと、特異点が設けられたワークと、ワークの特異点を観察するための観察孔が設けられたワークステージと、ワークステージ上に特異点を下にして載置されたワークの特異点を、観察孔を介して観察する第1の観察部と、マスクのマスクアライメントマークを観察する第2の観察部とを有する、アライメントユニットと、第1の観察部と第2の観察部との間の水平距離に、特異点とマスクアライメントマークとの間の水平距離を等しくするように、マスクステージまたはワークステージを移動する制御手段を備えたことを特徴とする裏面アライメント機能を備えた露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (2)：
H01L 21/30 510 ,  G03F 9/00 H
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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