不動態化垂直空洞面発光レーザ

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大貫進介 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997202435
Publication number (International publication number)：1998075014
Application date： Jul. 11, 1997
Publication date： Mar. 17, 1998
Summary：

【要約】【課題】物理的および化学的損傷から保護され、その製造工程が簡略化され、信頼性が向上した発光素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】半導体基板の面の上に配設された分散型ブラッグ反射器の第1の積層体, この第1の積層体の上に配設された第1のクラッド層, 第1のクラッド層の上に配設された活性領域, 活性領域の上に配設された第2のクラッド層, 第2のクラッド層の上に配設された分散型ブラッグ反射器の第2の積層体を含む不動態化垂直空洞面発光レーザ。放出される光の波長の約半分の整数倍の光学的厚みを有する不動態化層がこの垂直空洞面発光レーザの上に配設される。

Claim (excerpt)：

面を有する半導体基板;前記半導体基板の面上に配設された分散型ブラッグ反射器の第1積層体,前記分散型ブラッグ反射器の第1積層体上に配設された第1のクラッド領域, 前記第1クラッド領域上に配設された活性領域, 前記活性領域上に配設された第2クラッド領域, 前記第2クラッド領域上に配設された分散型ブラッグ反射器の第2積層体を含む垂直空洞面発光レーザであって、前記垂直空洞面発光レーザは選択された波長の光を放出する垂直空洞面発光レーザ;および前記垂直空洞面発光レーザの上に配設された不動態化層であって、前記不動態化層は放出される光の波長の約半分の整数倍の光学的厚みを有する不動態化層;から成ることを特徴とする不動態化垂直空洞面発光レーザ。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

面発光レーザ装置とその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-083842 Applicant：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
内部ウインドウを持つ電子デバイスの製造
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-061820 Applicant：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
パターン化されたミラー縦型空洞表面放出レーザ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-089461 Applicant：モトローラ・インコーポレイテッド

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