分光エリプソメータ

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤本英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001127495
Publication number (International publication number)：2002323304
Application date： Apr. 25, 2001
Publication date： Nov. 08, 2002
Summary：

【要約】【課題】微小な領域の測定を高精度に行うことができる分光エリプソメータを提供すること。【解決手段】試料1の表面1aに偏光光8を照明する照明光学系3と、試料表面1aで反射した楕円偏光8の偏光変化量に基づいて試料表面1aに関するデータを出力する検出光学系9とを備えた分光エリプソメータにおいて、前記照明光学系3におけるF数を試料表面1aにおけるビームスポット径が得られる程度の大きさに設定するとともに、前記検出光学系9のF数を前記照明光学系3におけるF数よりも大きく設定した。

Claim (excerpt)：

試料の表面に偏光光を照明する照明光学系と、試料表面で反射した楕円偏光の偏光変化量に基づいて試料表面に関するデータを出力する検出光学系とを備えた分光エリプソメータにおいて、前記照明光学系におけるF数を試料表面におけるビームスポット径が得られる程度の大きさに設定するとともに、前記検出光学系のF数を前記照明光学系におけるF数よりも大きく設定したことを特徴とする分光エリプソメータ。

IPC (4)：

G01B 11/06 , G01J 3/447 , G01J 4/04 , G01N 21/21

FI (4)：

G01B 11/06 Z , G01J 3/447 , G01J 4/04 Z , G01N 21/21 Z

F-Term (51)：

2F065AA30 , 2F065CC20 , 2F065CC25 , 2F065CC31 , 2F065DD03 , 2F065FF50 , 2F065GG03 , 2F065GG24 , 2F065HH04 , 2F065HH09 , 2F065HH12 , 2F065JJ08 , 2F065LL19 , 2F065LL30 , 2F065LL33 , 2F065MM03 , 2F065NN03 , 2F065PP12 , 2F065UU07 , 2G020AA03 , 2G020AA04 , 2G020AA05 , 2G020BA18 , 2G020CA15 , 2G020CB04 , 2G020CB32 , 2G020CB42 , 2G020CB43 , 2G020CC01 , 2G020CC29 , 2G020CD15 , 2G059AA02 , 2G059BB08 , 2G059BB16 , 2G059DD13 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059EE11 , 2G059FF06 , 2G059GG10 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH03 , 2G059HH06 , 2G059JJ01 , 2G059JJ14 , 2G059JJ19 , 2G059JJ30 , 2G059KK01 , 2G059LL02 , 2G059MM01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

偏光解析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-016679 Applicant：株式会社日立製作所
多数角度分光分析器
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平7-504543 Applicant：サーマ-ウェイブ・インク
半導体上の多層薄膜積層を解析する装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-502402 Applicant：サーマ-ウェイブ・インク

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