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J-GLOBAL ID：200903051587224894

パターン形成体の製造方法

Inventor：
服部 秀志

About 服部 秀志


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000380889
Publication number (International publication number)：2002184752
Application date： Dec. 14, 2000
Publication date： Jun. 28, 2002
Summary：
【要約】【課題】 マイクロ・コンタクトプリンティングに適さないような場合であっても、フォトリソグラフィ法を用いることなく精細なパターン形成体を製造することが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材の表面材料を化学的に変性するために、版を用いて基材の表面材料に前記表面材料を変性する変性剤をパターン状に付着させ、基材の表面材料に化学的に変性された領域のパターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。
Claim (excerpt)：
基材の表面材料を化学的に変性するために、版を用いて基材の表面材料に前記表面材料を変性する変性剤をパターン状に付着させ、基材の表面材料に化学的に変性された領域のパターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (2)：
H01L 21/306 ,  C23C 18/28
FI (2)：
C23C 18/28 ,  H01L 21/306 F
F-Term (11)：
4K022AA01 ,  4K022AA03 ,  4K022AA13 ,  4K022AA41 ,  4K022CA06 ,  4K022DA01 ,  5F043AA22 ,  5F043AA40 ,  5F043DD30 ,  5F043GG02 ,  5F043GG04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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