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J-GLOBAL ID:200903051599207529

糖残基を有するオルガノポリカルボシロキサンおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001348118
Publication number (International publication number):2003146991
Application date: Nov. 13, 2001
Publication date: May. 21, 2003
Summary:
【要約】【課題】 糖残基を有する新規なオルガノポリカルボシロキサンとその製造方法を提供する。【解決手段】一般式:{X1R1aSiO(3-a)/2}x{R1bSiO(4-b)/2}y[式中、R1はアルキル基もしくはアリール基であり、X1はi=1とした場合の一般式:【化1】{式中、R2はアルキレン基であり、R3はアルキル基であり、iは1〜10の整数であり、biおよびciは0〜3の整数であり、biとciの和は3以下であり、X1で示されるシリルアルキル基の繰り返し数または階層数がiのとき、Xi+1は特定の糖残基である。}で示されるシリルアルキル基であり、aは0〜2、bは0〜3、xは2以上、yは0以上であるそれぞれ整数である。]で示され、1分子中に少なくとも2個の糖残基を有するオルガノポリカルボシロキサンおよびその製造方法。
Claim (excerpt):
一般式:{X1R1aSiO(3-a)/2}x{R1bSiO(4-b)/2}y[式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、X1はi=1とした場合の一般式:【化1】{式中、R1は前記に同じ、R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、R3は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、iは1〜10の整数であり、biは0〜3の整数であり、ciは0〜3の整数であり、biとciの和は3以下であり、X1で示されるシリルアルキル基の繰り返し数または階層数がiのとき、Xi+1は一般式:-R4-S-R5-Y(式中、R4 、R5はそれぞれ独立に炭素原子数1〜20の2価の炭化水素基であり、YはR5との結合部位が酸素原子である置換もしくは非置換の単糖残基または多糖残基である。)で示される基である。}で示されるシリルアルキル基であり、aは0〜2の整数であり、bは0〜3の整数であり、xは2以上の整数、yは0以上の整数であり、各シロキサン構造単位が複数ある場合は、それらは互いに同じでも異なっていても良い。]で示され、1分子中に少なくとも2個の置換または非置換の糖残基を有するオルガノポリカルボシロキサン。
F-Term (13):
4H049VN01 ,  4H049VP09 ,  4H049VQ49 ,  4H049VQ58 ,  4H049VQ78 ,  4H049VR21 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VR43 ,  4H049VR44 ,  4H049VU20 ,  4H049VU36 ,  4H049VW02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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