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J-GLOBAL ID:200903052286347377

セラミック多層基板及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 加古 宗男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997341105
Publication number (International publication number):1999177239
Application date: Dec. 11, 1997
Publication date: Jul. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】 セラミック多層基板のワイヤボンディング性を向上させる。【解決手段】 導体パターンが印刷された複数枚のグリーンシートを積層し、このグリーンシート積層体11を、素子搭載面Aを下向きにして金属板12上に載置すると共に、該グリーンシート積層体11の上面Bにゴム板13を宛がう。この状態で、グリーンシート積層体11を100°C、50kgf/cm2 で加熱圧着して一体化し、生基板11を作製する。この際、内層の導体パターンによる基板面の凸変形が、金属板12よりも変形しやすいゴム板13の方に片寄って生じる。その結果、生基板11のうち素子搭載面とは反対側の面Bには、比較的大きな凹凸が生じるが、その分、素子搭載面Aの凹凸が小さくなる。この後、生基板11を900°Cで焼成した後、素子搭載面Aに、Auペーストを用いてワイヤボンディング用のパッドをスクリーン印刷し、これを850°Cで焼成する。
Claim (excerpt):
基板片面を素子搭載面とし、基板内層に導体パターンが形成されたセラミック多層基板において、前記基板内層の導体パターンにより生じる前記素子搭載面の凹凸を2μm以下としたことを特徴とするセラミック多層基板。
IPC (4):
H05K 3/46 ,  B28B 3/02 ,  C04B 35/64 ,  H05K 3/12 610
FI (5):
H05K 3/46 H ,  H05K 3/46 C ,  B28B 3/02 J ,  H05K 3/12 610 H ,  C04B 35/64 G
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (2)

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