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J-GLOBAL ID：200903052366111102

パターンデータ補正方法

Inventor：
須藤 賢一

About 須藤 賢一

, 
岩瀬 悦夫

About 岩瀬 悦夫


Applicant, Patent owner：
旭光学工業株式会社

About 旭光学工業株式会社


Agent (1)： 松岡 修平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999313546
Publication number (International publication number)：2001134627
Application date： Nov. 04, 1999
Publication date： May. 18, 2001
Summary：
【要約】【課題】 エッチング工程でのオーバーエッチングを回避することのできるパターンデータを、短時間で生成することのできるパターンデータ補正方法を提供する。【解決手段】 CADで設計されたパターンデータを入力データとし、ユーザーにより指定された、パターン補正を行うべき線幅に基づいて、前記入力データに含まれる全てのパターンデータについて前記指定線幅以下であるか否かを調べ、前記指定線幅以下である前記パターンデータについては、その周囲に補正ラインを付加してパターン幅を太くし、前記付加した補正ラインの集合として補正データを生成し、前記入力データに補正データを加えてフォトマスク作成用のデータとすることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
プリント基板に関する各種の製造用のデータを生成する製造用データ編集システムにおいて、CADで設計されたパターンデータを入力データとし、ユーザーにより指定された、パターン補正を行うべき線幅に基づいて、前記入力データに含まれる全てのパターンデータについて前記指定線幅以下であるか否かを調べ、前記指定線幅以下である前記パターンデータについては、その周囲に補正ラインを付加してパターン幅を太くし、前記付加した補正ラインの集合として補正データを生成し、前記入力データに補正データを加えてフォトマスク作成用のデータとすること、を特徴とする、パターンデータ補正方法。
IPC (2)：
G06F 17/50 ,  H05K 3/00
FI (2)：
H05K 3/00 D ,  G06F 15/60 658 M
F-Term (2)：
5B046AA08 ,  5B046BA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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