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J-GLOBAL ID：200903052440705893

水素ガス生成装置

Inventor：
中西 治通

About 中西 治通

, 
松本 信一

About 松本 信一


Applicant, Patent owner：
トヨタ自動車株式会社

About トヨタ自動車株式会社


Agent (1)： 五十嵐 孝雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000347856
Publication number (International publication number)：2002154803
Application date： Nov. 15, 2000
Publication date： May. 28, 2002
Summary：
【要約】【課題】 ケミカルハイドライドと呼ばれる金属水素化物を用いて生成される水素ガスの純度を向上する。【解決手段】 金属水素化物を反応器で加水分解する。生成された水素、水、金属含有生成物の混合物から、分離器10によって不純物を分離する。分離器内では、混合物の流速を低下させて不純物を落下させるとともに、生成物を沈殿させて水と生成物の分離を行う。上澄みの水は、回収され加水分解に再利用される。分離器内の温度を低下させることによって、溶解している生成物を析出させてもよい。分離器の作用によって、生成される水素ガスの水素純度を向上することができる。併せて、水の再利用によって、水タンク容積の低減、装置の小型化を図ることができる。
Claim (excerpt)：
金属水素化物から金属含有生成物と水素とを生成する加水分解反応または熱分解反応を利用して、水素ガスを生成する水素ガス生成装置であって、前記分解反応を行う反応器と、前記反応によって生成された混合物から前記金属含有生成物の少なくとも一部を除去することにより水素ガスの純度を向上する不純物除去手段とを備える水素ガス生成装置。
IPC (7)：
C01B 3/04 ,  C01B 3/06 ,  C01B 3/50 ,  H01M 8/00 ,  H01M 8/04 ,  H01M 8/06 ,  H01M 8/10
FI (7)：
C01B 3/04 Z ,  C01B 3/06 ,  C01B 3/50 ,  H01M 8/00 Z ,  H01M 8/04 J ,  H01M 8/06 R ,  H01M 8/10
F-Term (20)：
4G040FA02 ,  4G040FB01 ,  4G040FB02 ,  4G040FC04 ,  4G040FC08 ,  4G040FC09 ,  4G040FE01 ,  4G140FA02 ,  4G140FB01 ,  4G140FB02 ,  4G140FC04 ,  4G140FC08 ,  4G140FC09 ,  4G140FE01 ,  5H026AA04 ,  5H026AA06 ,  5H027AA04 ,  5H027AA06 ,  5H027BA14 ,  5H027BA16
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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