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J-GLOBAL ID:200903052534595595
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
高松 猛
, 矢澤 清純
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008009840
Publication number (International publication number):2009093137
Application date: Jan. 18, 2008
Publication date: Apr. 30, 2009
Summary:
【課題】通常露光(ドライ露光)、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物に対応する繰り返し単位を含有し、活性光線又は放射線の照射により酸基を生成する樹脂(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。 【化1】【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記一般式(I)で表される化合物に対応する繰り返し単位を含有し、活性光線又は放射線の照射により酸基を生成する樹脂(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (5):
G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
, C08F 20/10
, G03F 7/38
FI (5):
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, C08F20/10
, G03F7/38 501
F-Term (40):
2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025FA04
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096CA06
, 2H096DA10
, 2H096EA05
, 2H096EA12
, 2H096GA09
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03S
, 4J100BA11P
, 4J100BA20Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC04R
, 4J100BC04S
, 4J100BC08P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC28S
, 4J100BC36R
, 4J100BC36S
, 4J100BC53P
, 4J100BC58P
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100JA37
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
特開昭57-153433号公報
-
パターン形成方法及びその露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-008136
Applicant:株式会社日立製作所
-
国際公開第04-077158号パンフレット
-
国際公開第04-068242号パンフレット
-
レジストパタン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-175821
Applicant:学校法人東京電機大学
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Cited by examiner (1)
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